真空离子电镀法是目前光学滤光片行业使用比较多的滤光片镀膜工艺工艺，物理气相沉积术（PVD）属于光学镀膜最重要的工艺范畴。首先在真空镀膜机中利用离子轰击清洗滤光片待镀膜基板表面，接着启动蒸发源部分气体在等离子体轰击中离子化，并被预热滤光片基板表面的负压加速，因此，在层基板和部分新形成的金属层连续被烧蚀的同时，汽化金属层便生长在滤光片基板上。电子束蒸发技术相结合，可以得到较高的沉积率。入射电子束对滤光片膜层结构有很大影响，滤光片膜层性质取决于众多复杂参数，因此通过有目的的工艺控制有可能直接影响滤光片膜层的密度、硬度和耐腐蚀性。物理气相沉积术（PVD）属于光学镀膜最重要的工艺范畴。两方面的优势特别明显：可镀基板的多样性以及实用镀膜材料的广泛性。
采用真空镀膜离子（PVD）镀膜的滤光片产品，膜层牢固性好，硬度高耐摩擦，耐腐蚀可以在高温高湿的环境中长期使用并保持稳定的滤光片性能，目前纳宏光电采用进口的真空镀膜离子镀膜机可以为您提供多种类可以定制化生产的滤光片解决方案，欢迎来电垂询。
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