离子辅助镀膜技术（IAD）已被广泛用来作为一种改善光学滤光片薄膜特性的工艺手段，多年的实践研究结果表明：离子辅助镀膜技术工艺对于改进光学滤光片薄膜的性质，改善滤光片薄膜的微结构、滤光片应力状态与滤光片表面形貌具有良好效果，同时它还保持了真空热蒸发技术能够方便、迅速地制备各种滤光片薄膜的优点。离子辅助镀膜工艺的独特技术是在高真空室中设置与蒸发源不发生相互影响的独立离子源，用该源产生带能离子束直接轰击滤光片基片和生长薄膜不仅可以显著增强膜基与滤光片膜层间的结合，而且可以起到增加存储密度，消除柱状品，提高滤光片膜层的致密度的作用。同时可以改变滤光片薄膜的机械性能和滤光片光学特性，以及化学成分和结构，从而净化基片、提高镀速和薄膜质量。
离子辅助镀膜技术示意图
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