硅红外滤光片旨在降低直拉硅单晶氧含量,提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺。其特征是将硅片在400-1000℃温度间的四段温区逐步升温并保温适当时间并在硅片冷却至850℃以下时取出,
处理后的直拉硅单晶片在9um处的透过率接近或达到区熔硅单晶的水平,用热处理后的廉价直拉硅单晶片制造的红外滤光片,可满足红外仪器设备所需红外滤光片的要求,大大降低了滤光片的成本。
硅红外滤光片的热处理工艺,包括硅片的切、磨、抛光和腐蚀清洗及热处理用石英炉管的HCl处理,
它的特征在于:
1.在炉温低于400℃时,装入硅片,
2.将炉温升至400-550℃,保温10-30小时;然后升温至700-800℃,保温10-30小时,再升温至800-900℃,保温2-5小时,最后升温至900-1000℃,保温2-5小时,
3.在炉温降至850℃以下时,取出硅片。
硅单晶红外滤光片具有良好的红外光谱特性以及物理性能,目前已经广泛的在红外传感器滤光片主要采用单晶硅为基片,通过在基片上交替镀制不同折射率和厚度的材料薄膜,使基材具有长波通、短波通,带通,增透,反射等光学功能。
我司生产的单晶硅红外滤光片主要应用在激光、成像、探测、测温、传感、航空航天等领域的传感器上面,所以也叫红外传感器专用滤光片。
硅单晶红外滤光片主要应用:
1、红外报警器
2、高清晰夜视仪
3、体温测温仪
4、红外热成像仪
5、大气体分析仪
深圳纳宏光电生产的硅单晶红外滤光片的特点具有波长定位准确、透过高、截止深、温飘小、耐用性好、光洁度好等特点。深圳纳宏光电拥有多台进口分光测试仪,覆盖了紫外波段,可见光波段,近红外波段到中远红外波段的190nm~28000nm范围内的光学指标。
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